合作伙伴：華科大藥物研發(fā)機(jī)構(gòu)

儀器類型：液相色譜串聯(lián)質(zhì)譜聯(lián)用儀

品牌：AB sciex

型號(hào)：  Triple Quad 75007500， Triple Quad 6500+

2025年03月05日，搬遷華科大藥物研發(fā)機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室從拆卸，打包，運(yùn)輸，維護(hù)，調(diào)試儀器設(shè)備 AB sciex Triple Quad 7500和AB sciex Triple Quad 6500+，確保儀器設(shè)備恢復(fù)到搬遷前狀態(tài)，工作完畢，感謝客戶的支持與認(rèn)可 

PS：譜標(biāo)的幾個(gè)女工程師還是很強(qiáng)悍的，一點(diǎn)不輸男孩子，搬遷調(diào)試維護(hù)可以獨(dú)當(dāng)一面

搬遷AB SCIEX Triple Quad 7500和AB SCIEX Triple Quad 6500+質(zhì)譜儀是一項(xiàng)復(fù)雜且需要專業(yè)操作的任務(wù)，以下是一些關(guān)鍵步驟和注意事項(xiàng)：

搬遷前的準(zhǔn)備

專業(yè)服務(wù)團(tuán)隊(duì)：建議聯(lián)系專業(yè)的儀器搬遷服務(wù)團(tuán)隊(duì)的技術(shù)支持，以確保搬遷過(guò)程符合設(shè)備要求。

檢查設(shè)備狀態(tài)：在搬遷前，確保設(shè)備處于良好的工作狀態(tài)，檢查所有關(guān)鍵部件是否正常。

備份數(shù)據(jù)：確保所有實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和配置文件已備份，避免在搬遷過(guò)程中丟失。

去污處理：如果設(shè)備曾用于處理放射性物質(zhì)、生物制劑或有毒化學(xué)品，必須按照當(dāng)?shù)胤ㄒ?guī)進(jìn)行去污處理。

搬遷過(guò)程中的注意事項(xiàng)

專業(yè)搬運(yùn)：使用專業(yè)的搬運(yùn)設(shè)備和人員，避免設(shè)備在搬運(yùn)過(guò)程中受到震動(dòng)或損壞。

真空系統(tǒng)保護(hù)：確保真空系統(tǒng)在搬運(yùn)過(guò)程中保持密封，避免空氣進(jìn)入導(dǎo)致真空度下降。

離子源保護(hù)：離子源是質(zhì)譜儀的關(guān)鍵部件，搬運(yùn)時(shí)需特別小心，避免任何可能的碰撞或損壞。

搬遷后的安裝與調(diào)試

環(huán)境檢查：確保新實(shí)驗(yàn)室的環(huán)境條件符合設(shè)備要求，包括溫度、濕度和電源穩(wěn)定性。

專業(yè)安裝：由專業(yè)技術(shù)工程師進(jìn)行安裝和調(diào)試，確保設(shè)備正確安裝并恢復(fù)到良佳工作狀態(tài)。

系統(tǒng)測(cè)試：完成安裝后，進(jìn)行全面的系統(tǒng)測(cè)試，包括真空系統(tǒng)、離子源和檢測(cè)器等，確保設(shè)備性能符合標(biāo)準(zhǔn)。

廢棄物處理

如果設(shè)備需要廢棄，必須按照當(dāng)?shù)胤ㄒ?guī)進(jìn)行處理，避免對(duì)環(huán)境造成影響。

AB sciex Triple Quad 7500單次維保，錐清洗，LENS打磨拋光，多級(jí)桿清洗，jet清洗，離子源清洗，四級(jí)桿清洗，Q0清洗，PM性能測(cè)試完成。

維護(hù)保養(yǎng)計(jì)劃

定期清潔：定期清潔質(zhì)譜儀外表面，可用浸濕溫肥皂水的軟布擦拭，再用浸濕水的軟布擦拭以去除肥皂殘留。

離子源維護(hù)：根據(jù)需要清潔或更換離子源組件，如E Lens Technology等，具體可參考《OptiFlow Pro離子源操作員指南》。

檢查氣源系統(tǒng)：在系統(tǒng)維護(hù)期間，仔細(xì)檢查外部氣源系統(tǒng)的部件，包括連接設(shè)備的導(dǎo)管，確認(rèn)其狀態(tài)良好，更換破裂、夾壞或塌陷的導(dǎo)管。

清潔前端：采用日常清潔方法清潔質(zhì)譜儀前端，包括清潔至并包括錐孔板的前部。如果日常清潔不能解決靈敏度問(wèn)題，可能需要進(jìn)行一次全面清潔，建議聯(lián)系現(xiàn)場(chǎng)服務(wù)人員。

清空廢氣排放瓶：定期檢查離子源廢氣排放瓶，并在其裝滿前將其清空，同時(shí)檢查排放瓶和接頭有無(wú)泄漏，并在必要時(shí)擰緊連接件或更換組件。

清潔做法

冷卻離子源：先讓OptiFlow Pro離子源冷卻至少40分鐘，再開(kāi)始任何維護(hù)程序。

佩戴手套：始終戴著干凈的無(wú)粉手套（推薦丁腈和氯丁橡膠）執(zhí)行清潔程序，在清潔質(zhì)譜儀組件之后及重新組裝之前，戴上一副新的干凈的手套。

使用合適的清潔用品：不要使用此程序中沒(méi)有提及的其他清潔用品，僅在非常干凈的玻璃器皿中制備和儲(chǔ)存所有的有機(jī)溶液和含有機(jī)物的溶液，切勿使用塑料瓶。

避免污染：將溶液倒在擦拭布或棉簽上，僅用擦拭布的中心區(qū)域接觸質(zhì)譜儀表面，切割邊緣會(huì)留下纖維。擦拭布或棉簽觸及表面一次之后就應(yīng)丟棄，避免交叉污染。

清潔氣簾板和孔板

拆除氣簾板：從真空接口上筆直地拉出氣簾板，然后將其圓錐形的一面朝上，放置在干凈、穩(wěn)定的臺(tái)面上。

清潔氣簾板：先用LC-MS級(jí)水潤(rùn)濕一塊無(wú)絨布，再清潔氣簾板的兩側(cè)，可使用清洗液重復(fù)清潔，用潤(rùn)濕的擦拭布或聚酯棉簽清潔孔隙，等氣簾板變干燥后，檢查并去除任何殘留物。

清潔孔板前部：先用LC-MS級(jí)水潤(rùn)濕一塊無(wú)絨布，再擦拭錐孔板前部，包括接口加熱器，使用清洗液重復(fù)清潔，等錐孔板變干燥后，檢查并去除任何殘留物。